Основной контент книги Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
Tekst PDF
Objętość 19 stron
2007 rok
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
6,36 zł
O książce
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.
Gatunki i tagi
Zaloguj się, aby ocenić książkę i dodać recenzję
Книга Владимира Астахова, Андрея Полисана «Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа» — читать онлайн на сайте. Оставляйте комментарии и отзывы, голосуйте за понравившиеся.
Ograniczenie wiekowe:
0+Data wydania na Litres:
28 marca 2018Data napisania:
2007Objętość:
19 str. Całkowity rozmiar:
298 КБCałkowita liczba stron:
19Właściciel praw:
МИСиС