📚 Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа czytaj książkę
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.
Szczegółowe informacje
Ograniczenie wiekowe:
0+
Data dodania do LitRes:
28 marca 2018
Data powstania:
2007
Rozmiar:
19 str.
Całkowity rozmiar:
0 MB
Całkowity liczba stron:
19
Rozmiar stron:
149 x 210 мм
Prawa autorskie:
МИСиС
"Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа" — przeczytaj darmowy fragment online. Zamieszczaj komentarze, recenzje i głosuj na swoje ulubione.
Владимир Астахов, Андрей Полисан, jeszcze 0 autorów
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типаPDF
Wybierz sposób
Kopiuj link
Używamy plików cookie, aby umożliwić użytkownikom szybsze i wygodniejsze korzystanie ze strony.Szczegóły
Отзывы