Основной контент книги Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
tekstPDFObjętość 357 stron
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
autor
annie baudrant
803,78 zł
O książce
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Gatunki i tagi
Zostaw recenzję
Zaloguj się, aby ocenić książkę i zostawić recenzję
Książka Annie Baudrant «Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment» — czytaj online na stronie. Zostaw komentarze i recenzje, głosuj na ulubione.
Ograniczenie wiekowe:
0+Data wydania na Litres:
10 kwietnia 2018Objętość:
357 str. ISBN:
9781118601112Całkowity rozmiar:
14 МБCałkowita liczba stron:
357Właściciel praw:
John Wiley & Sons Limited
