Основной контент книги Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Tekst PDF

Czas trwania książki 465 stron

2018 rok

0+

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

399 ₽
30,21 zł

O książce

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011–1012 см–3), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10–2 ÷ 10–1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD.

За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого – систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.

Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

Zobacz wszystkie opinie

Очень нужная книга для специалиста. Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников Индукционной связанной Плазмы. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений.

Zaloguj się, aby ocenić książkę i dodać recenzję
Książka Л. А. Сейдман, Е. В. Берлина «Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения» — pobierz w formacie pdf lub czytaj online. Zostaw komentarze i recenzje, głosuj na ulubione.
Ograniczenie wiekowe:
0+
Data wydania na Litres:
29 października 2019
Data napisania:
2018
Objętość:
465 str.
ISBN:
978-5-94836-519-0
Całkowity rozmiar:
19 МБ
Całkowita liczba stron:
465
Właściciel praw:
Техносфера
Format pobierania:
Tekst
Средний рейтинг 0 на основе 0 оценок
Tekst, format audio dostępny
Средний рейтинг 4,4 на основе 905 оценок
Tekst, format audio dostępny
Средний рейтинг 4,5 на основе 1486 оценок
Tekst, format audio dostępny
Средний рейтинг 4,5 на основе 435 оценок
Tekst
Средний рейтинг 4,6 на основе 522 оценок
Tekst, format audio dostępny
Средний рейтинг 4,6 на основе 1118 оценок